設(shè)備介紹

ZY-1185 多弧離子真空鍍膜機是用于在各種工具、刀具、抗磨零件等表面涂裝硬質(zhì)或超硬質(zhì)耐磨涂層的專用設(shè)備。設(shè)備合理配備多套最新研制的陰極電弧，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性，同時采用先進的多路進氣系統(tǒng)，精準控制氣體流量，滿足客戶多種化合物膜層需求。另外，本品還裝載大功率脈沖偏壓電源，能極大提高電離子能量，保證離化率高、離子能量大、沉積速度快，從而獲得優(yōu)秀的膜層結(jié)合力和光潔度。

設(shè)備特點

電弧在靶材整個表面做快速移動，靶材表面被均勻刻蝕，優(yōu)化了涂層結(jié)合力，涂層表面光滑致密，且具有優(yōu)異的涂層附著力。

擁有更快的批次周轉(zhuǎn)效率和涂層生產(chǎn)效率。

在有效鍍層范圍內(nèi)涂層厚度均勻。

高質(zhì)量的硬質(zhì)涂層允許工具具有更高的切削和進料速度，并由于延長使用壽命而減少了更換工具的時間，從而降低了總加工成本。

涂層的摩擦性和硬度允許減少潤滑和冷卻，保證加工零件的表面質(zhì)量更好。

設(shè)備參數(shù)